|
Компания АКТАН
ВАКУУМ поставляет ионные источники и оборудование для ионно-плазменных технологий.
Американский производитель ионных источников, компания Kaufman & Robinson, является старейшей и наиболее уважаемой компанией по производству ионных источников (ионных пушек) для вакуумных систем. Компания выпускает самую широкую линейку ионных источников, как по типам ионных источников, так и по размерам. Работая в данной области более 30 лет, компания имеет самый большой опыт в применении своих ионных источников в самых разных областях.
Благодаря высокой надежности и стабильности параметров работы ионных источников компании Kaufman & Robinson, сегодня именно эти источники выбирают большинство производителей вакуумных напылительных систем или вакуумных систем для травления подложек.
Несмотря на то, что термин ионный источник является более академичным, и на наш взгляд, более правильным по сравнению с термином ионная пушка, который также широко используется техническими специалистами, в данном разделе мы будем использовать оба этих термина.
В России оборудование компании Kaufman & Robinson эксклюзивно представляет
наша компания, которая имеет обученных сервис-инженеров, а также грамотных специалистов, имеющих образование и опыт работы в области создания ионных источников.
Компания Kaufman & Robinson производит следующие типы ионных источников и оборудования для ионно-плазменных технологий:
БЕССЕТОЧНЫЕ ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ END-HALL СЕРИИ еН
Ионные источники серии еН будут идеальным выбором, где требуется высокая плотность ионного пучка и небольшие энергии ионов в пучке. Высокая плотность пучка обеспечит качественное ионное ассистирование даже в процессах с высокой скоростью вакуумного напыления, в то время как низкая энергетичность ионов исключит разрушение подложки или напыляемого слоя.
СЕТОЧНЫЕ ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ СЕРИИ RFICP
Сеточные ионные источники серии RFICP с высокочастотным возбуждением плазменного разряда обеспечивают
прецизионное управление вытягиваемого ионного пучка. Данные ионные источники будут идеальным выбором, где требуется высокая плотность ионного пучка (благодаря высокой плотности высокочастотного плазменного разряда), прецизионная форма
ионного пучка, точный контроль энергии ионов, генерируемых ионным источником, а также высокая чистота ионного пучка, обеспечиваемая
отсутствием нитей накаливания в конструкции ионного источника.
СЕТОЧНЫЕ ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ СЕРИИ KDC
Сеточные ионные источники серии KDC представляют собой улучшенную и оптимизированную версию ионного источника Кауфмана (в данном случае название «ионный источник Кауфмана» - общепринятое название
ионных источников определенной конструкции, в название которого легла фамилия одного из основателей компании Kaufman and Robinson. Данные сеточные ионные источники используются во традиционных вакуумных технологических процессах, где требуются стабильный качественных ионный пучок с высокой регулируемостью параметров ионного пучка ионного источника.
БЛОКИ ПИТАНИЯ И КОНТРОЛЛЕРЫ ДЛЯ ПИТАНИЯ И УПРАВЛЕНИЯ ИОННЫМИ
ИСТОЧНИКАМИ
Блоки питания и управления компании Kaufman and Robinson предназначены для обеспечения стабильной работы ионных, плазменных и электронных источников в сложных условиях динамической нагрузки плазменных процессов.
ИСТОЧНИКИ ЭЛЕКТРОНОВ
Источники электронов компании Кауфман энд Робинсон имеют низкую энергию и большую силу тока. Как правило, они применяются как нейтрализаторы объёмного заряда ионного пучка или катоды для ионно-плазменных устройств.
ИОННАЯ ОПТИКА СЕРИИ OPTIBEAMTM
Источники ионов компании Кауфман энд Робинсон используют много-апертурные решётки, изготовленные из тугоплавких металлов или графита. Решётки могут быть плоскими или выпуклыми. Форма решётки и структура (размер, расположение) отверстий на решётке формируют траектории ионов, вылетающих из ионной пушки. Объединение всех траекторий ионов создаёт форму ионного пучка, которая характеризуется профилем ионного тока ионного пучка.
ТЕХНИЧЕСКАЯ БИБЛИОТЕКА
1. Промышленные источники широких ионных пучков
2. Нейтрализация ионного пучка
3. Чистота газа
4. Очистка на месте при напылении тонких пленок
5. Очистка/активация полимерных поверхностей
|
2015-2020 
