2015-2020 Интернет магазин eVacuum.ru предлагает все необходимые комплектующие для создания, проектирования и модернизации вакуумных систем.
Купить вакуумное оборудование в
интернет магазине eVacuum.ru

Компания Kaufman & Robinson представляет обновленную конструкцию традиционных ионных источников Кауфмана (серии KDC). Новая линейка продуктов серии KDC компании KRi привносит новые черты, такие как самовыравниваемая ионная оптика и современные блоки питания с переключением режимов. Эти новые узлы позволили создать более производительные, более надежные и менее дорогостоящие сеточные ионные источники Кауфмана. Линейка продуктов Кауфмана (серия KDC) включает в себя широкий спектр источников, охватывающий множество физических размеров и эксплуатационных технических характеристик.

Kaufman & Robinson предлагает полные законченные комплекты источников Кауфмана (серия KDC). Эти комплекты вместе с компонентами необходимы для установки и работы продуктов KDC. Они включают ионный источник (KDC), специализированную под определенные применения ионную оптику, нейтрализатор – источник электронов, контроллер электропитания, проходной вакуумный штуцер и кабели.

Продукты серии KDC используются во всем мире в ведущих научных исследованиях и промышленном производстве оптических, световых, магнитных и микроэлектронных устройств. Комплекты серии KDC разработаны с учетом удовлетворения требований конкретных применений. Они могут быть интегрированы во множество вакуумных установок, включая колпачные системы, небольшие многоцелевые НИОКР системы, установки для планетарного нанесения или травления, объемного вакуумного напыления, шлюзовых модулей кластерного типа под одну подложку, ленточные и ротационные установки, поточные установки нанесения покрытий.

Продукты серии KDC применяются как в широко известных, так и в еще разрабатываемых процессах обработки материалов. Возможность работать на атомном уровне делает продукты серии KDC эффективными инструментами для обработки пленок и поверхностей с нанометрической точностью. Будь то уплотнение, устранение напряжений, оптическая передача, удельное сопротивление, гладкие границы, улучшение адгезии, вертикальные боковые стенки или критичная глубина травления – везде продукты серии KDC помогут обеспечить требуемые характеристики материала. Как правило, продукты серии KDC используются в следующем широком спектре вакуумных процессов:

• Ионно-лучевое ассистирование при термическом и электронно-лучевом напылении (Ion beam assisted deposition – IBAD)

• Предварительная очистка и активация поверхности (preclean – PC)

• Модификация поверхностей (Surface modification – SM)

• Непосредственное нанесение тонких пленок (Direct deposition – DD)

• Нанесение методом ионно-лучевого распыления одно- и многослойных структур (Ion beam sputter deposition – IBSD)

• Ионное травление элементов поверхности в любых материалах (Ion beam etching – IBE)

• Очистка, доводка и придание формы прецизионным деталям с помощью ионного пучка (Ion beam trimming, tuning and figuring – IBE)

• Полировка ионным пучком при подготовке образцов для микроскопа (Ion beam polishing – IBP)

Модель сеточного ионного источника	KDC10	KDC40	KDC75	KDC100	KDC160
Метод генерации ионов	Удерживание плазмы постоянным магнитным полем
Высота (номинал)	4.5"	6.75"	7.9"	9.25"	9.92"
Диаметр (номинал)	1.52"	3.5"	5.5"	7.6"	9.1"
Размер пучка у сетки (типовой)	1 см	4 см	7.5 см	12 см	16 см
Формы пучка	Фокусированный, коллимированный, расфокусированный
Обрабатываемые материалы	Металлы, диэлектрики, полупроводники
Рабочие газы	Инертные, активные, смеси
Установка (типовая)	2-12"	6-18"	6-24"	8-36"	8-45"
Применение (типовое)	PC, SM, IBAD, IBE, IBSD