Мониторинг глубины плазменного травления в режиме реального времени методом in situ («на месте»), определение точки (момента) завершения травления и видеосистема для контроля подложки

НОВИНКА: Выпуск новой модели для работы с малым пятном LEP410 начнётся осенью 2014 года

Если в вашем технологическом процессе есть потребность в измерении глубины плазменного травления, вам необходим прибор LEP400.

Устройство LEP400 может быть встроено практически в любую установку плазменного травления (при нормальном падении на подложку). Интеграция осуществляется через небольшое «технологическое окно» в центре верхнего электрода. Большинство современных установок плазменного травления оснащены данным «технологическими окнами» в стандартном исполнении, и многие производители по запросу поставят модифицированный электрод. Если у вас возникли вопросы относительно именно вашей установки плазменного травления, пожалуйста, свяжитесь с нами для получения консультации.

Устройства контроля глубины плазменного травления LEP400 осуществляют контроль в режиме реального времени во многих процессах, где используется сухое травление, включая сферы полупроводников, оптоэлектроники, МЭМС (MEMS), анализа отказов и удаления тонких пленок.

Применение данного прибора позволяет проводить исследования in situ («на месте») и сокращает затраты на проведение наладочных работ как в производственной сфере, так и в сфере НИОКР. Система оснащена понятным интерфейсом на базе Windows™ для ввода данных, управления и визуализации. Программа EtchDirector© рассчитывает скорость травления и глубину травления в режиме реального времени, позволяя контролировать завершение процесса.

Прибор LEP400 может работать в качестве автономного устройства либо интегрироваться в установку плазменного травления от OEM-производителя посредством простого и надежного коммуникационного интерфейса.

Точность и воспроизводимость:

Данные показатели зависят от особенностей конкретного процесса. Однако, приведем пример:
 Скорость травления = 100 нм мин-1, частота выборки = 5 Гц
  Точность глубины травления: ± 0.67 нм
  Воспроизводимость глубины травления: ± 0.17 нм

Помимо чрезвычайно высоких точности и воспроизводимости, система LEP400 отличается свойством прекрасной адаптивности именно к вашим требованиям, что будет способствовать достижению поставленных вами целей.

Можете быть уверены в своем выборе!