ОБОРУДОВАНИЕ И КОМПОНЕНТЫ ДЛЯ ВАКУУМНЫХ, НАПЫЛИТЕЛЬНЫХ И ПЛАЗМЕННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ
Компания АКТАН ВАКУУМ поставляет
электронно-лучевые испарители, контроллеры и блоки питания.
Поставляемое оборудование для электронно-лучевого напыления тонких пленок в вакууме,
используется в самых ответственных приложениях по получению тонких пленок:
МЭМС и полупроводниковая промышленность,
нанотехнологии,
оптические пленки.
Компания АКТАН ВАКУУМ поставляет электронно-лучевые источники испарения с одним или несколькими тиглями,
источники питания и контроллеры для них. Всё оборудование производится в Германии
и США.
При электронно-лучевом испарении нагрев испаряемых
материалов происходит благодаря их бомбардировке в вакууме ускоренными электронами (электронным лучом). Энергия электронного луча определяется скоростью электронов и количество
эмитированных электронов. Благодаря тому, что электронно-лучевое испарение происходит в глубоком вакууме, получаемые плёнки имеют имеют повышенную чистоту. При этом электронный луч позволяет получать высокие скорости напыления и испарять материалы, которые плохо или невозможно испарить резистивным методом испарения.
FERROTEC (Германия):
Полный комплект оборудования для создания электронно-лучевой системы с блоками питания от 3 до 12 кВт.
Электронно-лучевые испарители
Широкая линейка электронно-лучевых испарителей для большого круга приложений, предъявляющих разные требования к источникам напыления.
Блок питания для электронно-лучевых испарителей
Компактные блоки питания серии Carrera для электронно-лучевых испарителей мощностью от 3 до 12 кВт разработаны на базе импульсных источников питания, что обеспечивает высокую эффективность работы, быстрое определение появления нежелательного дугового разряда и восстановление работы блока питания.
Контроллер для электронно-лучевых испарителей
Программируемый контроллер Genius обеспечивают улучшенную функциональность и используется во многих системах, требующих прецизионного напыления тонких плёнок.
2015-2019 
Поставляемое оборудование для электронно-лучевого напыления тонких пленок в вакууме,
используется в самых ответственных приложениях по получению тонких пленок:
